سیستم رسوبگیری نانوذرات با روش قوس پلاسما سری APD
سیستم رسوبگیری نانوذرات با روش قوس پلاسما یک سیستم رسوبگیری نانوذرات با استفاده از پالس های تخلیه قوس خلا است. رسوبگیری قوس پالس خلا یک تکنیک منحصر به فرد برای رسوب فیلم های بسیار ریز و نانوذرات با استفاده از تولید یون های فلزی در یک فرآیند ساده است. این سیستم رسوب گیری نانوذرات دارای عملکردی است که نظیر آن در سیستم های رسوبگیری دیگر مانند رسوبگیری ذرات یافت نمی شود.
کاربردها:
مدل APD-P (برای تثبیت نانوذرات در پودر)
کاتالیست پیل سوختی، کاتالیست گاز خودروها، فوتوکانالیست با استفاده ار نانوذرات، کاتالیست پراگندگی VOC، کاتالیست کربن نانوتیوب، پلاسمون
مدل APD-S (رسوبگیری مواد ابتدایی)
فیلم نازک فلزی (پلاسمون، مغناطیس، فیلم محافظتی)
ویژگی ها:
- این سیستم می تواند قطری در حد نانو را با اندازه تقریبی 1.5 nm تا 6 nm و از طریق تغییر ظرفیت چگالنده ایجاد کند
- این سیستم موجب ایجاد مواد پلاسمایی که هادی جریان الکتریکی هستند، می شود
*مقاومت ویژه برای محصول نهایی0.01 Ωcm یا کم تر
مشخصات فنی:
سیستم رسوبگیری نانوذرات با روش قوس پلاسما سری APD
|
مدل
|
APD-P
(مدل های پودری)
|
APD-S
)مدل رسوبگیری مواد اولیه)
|
محدوده دمایی
|
RT *1
|
RT~500 °C
|
اندازه مخاذن پودری/مواد اولیه
|
ابعاد داخلی:
φ 95mm × H 30 mm
با مکانیزم همزن
حجم پرکردن پودر: 13 cc تا 20 cc
|
مواد اولیه
φ 2-inch
|
محیط رسوبگیری
|
خلا، گاز با فشار پایین ((N2, H2, Ar, O2
|
تعداد رسوبگیری استاندارد
|
1 *2
|
*1: رسوبگیری تا دمای 500℃ می تواند انتخاب شود.
*2: تعداد منابع رسوبگیری می تواند مطابق نیازهای مصرف کنندگان ارائه شود.